新材料是生成和发展新质生产力的主阵地
顺义区民营企业着力破解
关键“卡脖子”问题
稳中求进、以进促稳、先立后破
发挥创新优势
加速形成新质生产力
工作人员正在做加工前粘片准备。
氧化镓小片单晶衬底。
一个个薄薄的透明晶片紧密排列在圆盘上，它们就是第四代半导体材料氧化镓。看似普通，却价值不菲，它们具有耐高压、耐高温、低损耗、高效率等特性，可应用于新能源汽车、光能、风能、水能等领域。
北京铭镓半导体有限公司是一家专门从事第四代半导体新材料研发的公司，随着氧化镓的优越性被市场认可、上下游产业链更加完善，铭镓半导体的订单与日俱增。
“今年我们增加了两个上下游企业，有助于我们打通从材料端到应用端的全链条，产能会实现一定的突破，在订单上预计突破2000万大关，为成为北京市规上企业做充分的准备。”北京铭镓半导体有限公司副总经理范钦明介绍。
液相法技术制备的2-6英寸4H-p型SiC衬底。
除了氧化镓，碳化硅在新能源汽车、轨道交通、高压输变电、光伏、5G通讯等领域具有重要的应用潜力。
碳化硅具有禁带宽度大、击穿场强高、饱和电子迁移率高、热导率高和化学稳定性好等优点，是制作高频、高压、大功率器件和蓝光发光二极管的理想衬底材料。
北京晶格领域半导体有限公司是国内首家采用以液相法为核心技术生长碳化硅晶体的企业。目前公司正处于关键技术攻关阶段，已成功生长出第一批6英寸液相法碳化硅晶体，为企业迎接新一年的挑战奠定了基础。
液相法不仅能有效提高晶体质量，降低生产成本，还能解决碳化硅衬底P型掺杂难以实现的产业化难题，对于推动宽禁带半导体产业发展具有重要意义。
企业入驻工宇园区。
新质生产力代表的新劳动者呈现出高素质化特征，科创集团作为顺义区的产业促进平台，面对新形势新任务，以企业实际需要为导向，通过搭建政企平台、深化企企合作、梳理惠企政策等方式，全力协助入驻企业筑牢高素质人才“蓄水池”。
针对不同发展阶段的企业，科创集团在项目落地实施、厂房扩展租赁以及对接投融资等方面，不断提供个性化支持与服务，助力企业突破关键核心技术，加快培育新质生产力，为顺义经济高质量发展积蓄新势能。
记者 范吴迪
摄影 范吴迪 许金星
文编 郑彧淼
